檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "機械工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="無光罩"
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目前主流半導體製程仍採用實體光罩進行黃光微影,但實體光罩有易污染、成本高以及光罩更換與對準曝光等問題。為解決這些問題,本實驗室開發出特殊的無光罩顯微鏡微影系統,其特點為整合了顯微鏡與投影機這兩個不同…
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本論文主要是利用自行研發設計的DMD(Digital Micromirro Device)無光罩微影系統(Maskless Photolithography System)製作垂直結構 TFT 元件…